- 光的等厚干涉特点
光的等厚干涉特点主要有以下几点：
1. 干涉条纹的中心是一亮点，称为光楔。
2. 两个反射镜的顶点是等厚干涉条纹的起始点。随着干涉条纹的展开，反射镜之间的距离逐渐增大。
3. 反射镜之间的空气薄膜的两表面在垂直于光源传播方向的平面上形成相干光源，产生干涉。
4. 当改变光源与干涉仪之间的距离时，干涉条纹将整体偏转。
5. 当改变两反射镜之间的倾斜度时，干涉条纹将出现弯曲现象。
以上是光的等厚干涉的一些特点，仅供参考。另外，光的等厚干涉主要应用于光学计量测试、光学镀膜工艺、光学系统调试、表面质量检查、光学元件加工等方面的研究。
相关例题：
光的等厚干涉特点之一是明暗相间的同心圆环，这些圆环的位置由光源的位置决定。当光源在无穷远时，干涉条纹从无穷远到无穷近分布着，形成一系列等间距的圆环。
当光线通过这些狭缝时，它们会形成干涉，干涉条纹的强度分布取决于光线的波长。对于特定的波长X，干涉条纹会被过滤掉，因为它们不会在等厚干涉仪的屏幕上形成可见的干涉图案。相反，对于其他波长的光线，它们会在屏幕上形成可见的干涉图案。因此，通过调整等厚干涉仪的狭缝间距和位置，我们可以选择性地过滤掉特定波长的光线。
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