- 光刻机的折射光路
光刻机的折射光路主要包括以下几个部分：
1. 光源：用于产生所需波长的光线。
2. 光学透镜和反射镜：用于聚焦光线，将其引导到掩模上。
3. 折射系统：当光线穿过折射系统时，会被系统中的介质改变方向。
4. 投影系统：当掩模上的光投射到硅基底上的感光材料上时，会形成图案。
5. 去除系统：用于去除不需要的物质，如腐蚀液去除硅基底上的材料。
这些部分共同构成了光刻机的折射光路，通过这个光路，光才能从掩模上传递到硅基底上，形成所需要的图案。
相关例题：
光刻机是一种用于微电子制造的设备，它利用光线通过掩模在硅片上刻划出集成电路。光刻的过程涉及到许多复杂的物理和光学原理。下面是一个光刻机折射光路的简单例题：
题目：假设光刻机中有一个平行于光轴的入射光线，经过两个折射率不同的介质交界处时，发生了折射。请画出这个折射光路的示意图，并说明折射光线相对于入射光线偏折的角度。
解答：
1. 假设入射光线为平行于光轴的平行光，即与X轴平行的光线。
2. 当此光线进入折射率较大的介质时，会发生折射。画出折射光线与法线的夹角θ，即为折射角。
θ = (n2 - n1) × d × 180° / π，其中n2为折射率较大的介质，n1为折射率较小的介质，d为介质的厚度（此处假设为光刻机中光刻胶膜的厚度）。
注意：以上解答仅为基础光路分析，实际的光刻机中可能涉及更多复杂的物理和光学现象，需要更深入的了解和计算。
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